13.07 (富士通(株)の6/27プレスリリース)

分野:
磁気記録
出典:
アルミナナノホールの一次元配列化を実現
 
タイトル:
バリウムフェライト磁性体を用いた磁気テープ媒体の開発
概要:
 山形富士通、富士通研究所、神奈川科学アカデミーは、世界で始めて陽極酸化アルミナナノホールを一次元的に配列して、ホールの中に磁性材料を充填する技術を開発した。 
本文:
 山形富士通、富士通研究所、神奈川科学アカデミーは協同で、世界で始めて陽極酸化アルミナナノホールを一次元的に配列し、このナノホール中に磁性材料を充填する技術を開発した。
  磁気ディスクの面記録密度を向上する為に、垂直磁気記録が実用化されているが、さらなる高密度を実現するには、非磁性材料中に磁性材料を等間隔に並べたパターンドメディアが必要になる。一方、陽極酸化したアルミナは、ナノメートルサイズのナノホールが自己組織的に形成される。ナノホールに磁性材料を充填すれば垂直磁化粒子を規則的に配列できる。この技術は従来から知られているが、ナノホールがハニカム構造をとるために円周方向に記録する磁気ディスクでは不向きであると考えられていた。
  今回の発表のポイントは、ナノホールを一次元的に配列できたことにある。具体的には、アルミニウム表面にライン状の凹凸パターンを形成すると、凹部のみにナノホールが並び、凸部にはナノホールが生じないという。今回の凹凸間隔は45ナノメートルであるが、このような微小なホールにもメッキ法でコバルトを充填した。今後、凹凸周期を25ナノメートルまで狭め、凹凸形状を円周状にすることで、1Tbit/inch^2の面記録を目指すとしている。
  陽極酸化アルミナは最も古くから研究されているパターンドメディアであるが、この技術でより現実的なものとなった。これからの発展が期待される。

(東芝 喜々津 哲)