ナノマグネティクス専門研究会を下記の内容で開催致します。皆様奮ってご参加下さいますようお願いします。またこれらのテーマに興味あるお知り合いがいらっしゃいましたら、本開催案内をご案内頂きますようお願いします。参加費は無料です。

日時:
2018年6月29(金)13:30~16:45
会場:
東京大学 本郷キャンパス(浅野地区) 工学部12号館2F 219-221会議室
URL: http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_13_j.html
オーガナイザ:
田畑 仁(東大)、清水真理子(東芝)、細見政功(ソニー)
問合せ先 :
細見政功(ソニー)
Masanori.Hosomi_at_sony.com(_at_を@へ変更してください)

プログラム

座長:清水真理子(東芝)
13:30~14:15
「トポロジカル反強磁性スピントロニクス:ワイル反強磁性体Mn3Snにおける巨大な電気・熱・光応答」

○肥後友也(東大)

14:15~15:00
「表面酸化Cu/NiFe膜における一方向性スピンホール磁気抵抗効果」

○岡野元基、能崎幸雄(慶大)

15:00~15:15
休憩
座長:田畑 仁(東大)、細見政功(ソニー)
15:15~16:00
「ペロブスカイト型遷移金属酸化物電荷移動界面で発現する強磁性の起源」

○北村未歩(KEK)

16:00~16:45
「強磁性トンネル接合を用いた非破壊検査用高感度磁気センサの現状と展望」

○金 珍虎(東北大)