MSJ 日本磁気学会


	日本磁気学会　第192回研究会

「磁性薄膜形成技術の向上と新展開」

　微細構造の形状や結晶等を制御して作製する技術の確立は磁性薄膜を用いたデバイスの応用にとって重要な課題となっています．特に，最適な薄膜形成方法の選択をすることは新規な物性をもつ磁性薄膜の創製にとって欠かせません．近年，磁性薄膜形成技術の向上に伴い精緻な構造を有する薄膜の作製が可能になってきています．本研究会ではそれらの技術の詳細や，得られる薄膜および微細構造にまつわる最先端技術，さらには新たな展開について，第一線で活躍されている講師の方々からご紹介していただきます．多くの方々のご参加をお待ちしております．

日時：	2013年 11月19（火）　13:00 ～ 17:20
場所：	中央大学駿河台記念館320号室（東京都千代田区神田駿河台3-11-5） TEL：03-3292-3111　（記念館事務室） URL：http://www.chuo-u.ac.jp/chuo-u/access/access_surugadai_j.html
参加費：	無料（研究会資料予約購読者，学生） 2,000円（会員，協賛会員） 4,000円（非会員）
資料代：	1,000円（会員、協賛会員、非会員、学生）
協賛：	応用物理学会，電気学会，電子情報通信学会，日本化学会，日本金属学会，日本磁気科学会，日本真空学会，日本物理学会，IEEE Mag. Soc. Japan Chapter
問合せ先：	日本磁気学会事務局　TEL:03-5281-0106 URL：http://www.magnetics.jp/seminar/topical/192.html
オーガナイザ：	天野実（東芝），小川智之（東北大），落合隆夫（東芝），介川裕章（物材機構），水口将輝（東北大）

プログラム：
座長：介川裕章（物材機構）

13:00 - 13:40	「磁性多層膜量産装置の現状と課題」恒川孝二（キヤノンアネルバ）
13:40 - 14:20	「熱アシスト磁気記録用FePtグラニュラー薄膜の微細構造と磁気特性」高橋有紀子（物材機構）
14:20 - 15:00	「パルス紫外光下で起こる酸化物薄膜の結晶成長と磁性薄膜への応用」中島智彦，篠田健太郎，土屋哲男（産総研）

休憩（20分）
座長：水口将輝（東北大）

15:20 - 16:00	「ウェットプロセスによる高機能磁性薄膜の創製」逢坂哲彌，蜂巣琢磨，杉山敦史，横島時彦（早稲田大）
16:00 - 16:40	「液相合成によるナノコンポジット磁石の創製」寺西利治（京大）
16:40 - 17:20	「パルスレーザー堆積法による磁性酸化物薄膜のエピタキシャル成長」福村知昭，Thantip S. Krasienapibal，長谷川哲也（東大）

研究会でのビデオ、写真撮影および録音はご遠慮頂いております。