39.02

分野:
磁気記録
タイトル:
規則的に配列されたパターンドメディアの記録・再生に成功
出典:
富士通のプレスリリース
(http://pr.fujitsu.com/jp/news/2007/08/9-1.html)
 
概要:
 山形富士通、富士通研究所、財団法人神奈川科学技術アカデミー重点研究室 益田グループ(グループリーダー:首都大学東京 益田秀樹 教授)は共同で、次世代HDD技術であるパターンドメディアの実現に向けて、ナノインプリントリソグラフィ法を用いて作製したアルミナナノホールに磁性体を充填した記録媒体に、世界で始めて記録・再生を行った。
本文:
 山形富士通、富士通研究所、財団法人神奈川科学技術アカデミー重点研究室 益田グループ(グループリーダー:首都大学東京 益田秀樹 教授)は共同で、次世代HDD技術であるパターンドメディアの実現に向けて、アルミナナノホールに充填した磁性体に世界で始めて記録・再生を行った。

 パターンドメディアは磁性材料を人工的に規則正しく並べた記録媒体で、次世代のHDD技術として期待されている。これまではナノメートルサイズの磁性体を充填したランダム配列のナノホールをディスク上に形成し、記録再生を実証してきた。更なる高密度化のため、ナノインプリントリソグラフィ法を用い、レジストに型を押しつけ物理的に変形させることで規則正しい凹みパターンを形成し、ディスクを加工することでナノホールを作製した。

 このナノホールは2.5インチディスク上に100nm間隔で形成し、磁性体を充填させ、ビット長100nmの信号を磁気ヘッドで記録し、記録された磁性体の磁気信号を観測した。今後は25nm間隔の規則配列した記録媒体を作製し、1Tbit/平方インチを目指す。 

(NEC 末光 克巳)