「第1回磁性人工構造膜の物性と機能専門研究会」のお知らせ



テーマ:トンネルGMR応用の最新動向
期日:5月12日(金) 13:00〜17:00
場所:三菱電機ビル9F会議室
   (千代田区丸の内2-2-3,東京駅丸の内南口より西へ徒歩3分)

プログラム:
1.13:00−13:10 開会あいさつ
2.13:10−13:50 トンネル接合の現状と応用
         小林和雄(富士通研)
3.13:50−14:30 2重トンネル接合のTMRとMRAMへの展開
         斉藤好昭,中島健太郎,天野実,高橋茂樹,砂井正之,
         猪俣浩一郎(東芝)
  14:30−15:00 休憩
4.15:00−15:40 トンネルGMRヘッドの構造と特性解析
         島沢幸司,Olivier Redon,笠原寛顕,Jijun Sun,
         佐藤一樹,加々美健朗,猿木俊司,荒木悟,森田治幸,
         松崎幹男(TDK)
5.15:40−16:20 低抵抗トンネルMRヘッド
         中田正文,林一彦,永原聖万,石原邦彦,深見栄三,
         藤方潤一,森茂,大橋啓之,三塚勉,松田和博,森馨,
         上條敦,柘植久尚(NEC)
6.16:20−16:40 まとめと今後への課題
         宮崎照宣(東北大)

担当世話人:荒木悟(TDK),猪俣浩一郎(東芝),深見達也(三菱電機)
申込方法:今回の研究会は会場の都合により事前申し込み制とし,
     先着順100名にて締め切らせていただきます。ご聴講ご希望
     の方は,5/9(火)までに下記までお申し込み下さい.
     三菱電機 深見 e-mail: fukami@med.edl.melco.co.jp
             tel: 06-6497-7511
             fax: 06-6497-7295

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