-金属/絶縁体グラニュラー磁性薄膜の急速な展開-

　近年、磁気応用の様々な分野でグラニュラー磁性体の重要性が明らかになってきま
した。グラニュラー薄膜は媒質中に数十から数百nmの磁性微粒子を分散させ、その組
成、サイズ、粒子密度、粒子間相互作用等を制御することによって、ソフトからハード
までの様々な磁気特性が発現します。特に磁性金属/絶縁体系グラニュラー薄膜は、ソフ
ト材料、磁気記録媒体、トンネルGMR等の様々な特性を示すことが報告され、基礎、
応用の両面からの重要性が急速に高まってきました。本研究会は、金属/絶縁体グラ
ニュラー磁薄膜の、形成過程並びにソフトからハードに至る磁気的性質等の多方面の
研究成果を報告していただき、今後の研究の動向を考えることを目的としたものです。

日時：７月３日（木）
時間：13:00-17:00
場所：日本大学理工学部駿河台校舎一号館第２会議室
      JR御茶ノ水駅より徒歩5分
      (東京都千代田区神田駿河台1-8，Tel:03-3293-3251)

講演題目：
(1) スパッタ法によるグラニュラー薄膜の形成過程と磁気的性質
                        加藤和照（三井金属）、島田 寛、北上修（東北大科研）
(2) Co-Al-Oグラニュラー薄膜の微細構造解析
                        大沼正人 （金属材料技術研究所）
(3) 金属 - 絶縁体グラニュラー系のトンネル伝導とＧＭＲ
                        三谷誠司、藤森啓安（東北大金研）
(4) 金属 - 絶縁体グラニュラー薄膜の高電気抵抗軟磁気特性
                        大沼繁弘（電気磁気材料研究所）
(5) (Fe-M)-SiO2グラニュラー薄膜磁気記録媒体
                        安部俊郎（日本ビクター）

オーガナイザー：
石尾俊二（秋田大学）
末澤慶孝（帝京平成大学）

問い合わせ先：
石尾 俊二　Tel:0188-89-2405　Fax:0188-37-0403
           E-mail:ishio@ipc.akita-u.ac.jp

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