第17回　磁性人工構造膜の物性と機能専門研究会

「微細加工」

日　時： 2003年2月17日(月) 13:00 - 16:45 場　所： 三菱電機　保健センター (新大阪駅よりJR宝塚線で20分　猪名寺駅下車 線路沿い南へ徒歩10分　三菱電機正門西へ1分) 参加費： 無料(お申し込み不要) 世話人： 新庄輝也(国際高等研)，榊間　博(松下)，深見達也(三菱) お問い合わせは深見まで E-mail: fukami.tatsuya@wrc.melco.co.jp TEL: (06)6497-7511

プログラム：

13:00 - 13:35	磁性体ドットにおけるボルテックスコアの磁性 　　　　奥野拓也(京大)，重藤訓志(理研)，小野輝男(阪大)，壬生　攻(京大)，新庄輝也(国際高等研)
13:35 - 14:10	磁性メモリ用アニュラードットの磁化過程と磁化状態 　　　　中谷亮一(阪大)
14:10 - 14:45	部分酸化磁性層を用いたCPPスピンバルブ 　　　　大島弘敬，長坂恵一，瀬山喜彦，近藤玲子，清水　豊，田中厚志(富士通研究所)
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15:00 - 15:35	FePtナノ粒子の磁気特性とLB法による単層膜形成 　　　　土屋裕子(日立)
15:35 - 16:10	配列制御された自己組織化ナノパターンの媒体加工への応用 　　　　鎌田芳幸(東芝)
16:10 - 16:45	アルミナナノホールを用いたパターンド媒体 　　　　安居伸浩，田　透(キヤノン)