国際・国内会議カレンダー l サイトマップ l お問い合わせ 
ホーム 学術講演会 研究会等 学会誌 情報コーナー 会員サービス 入会案内
専門研究会
専門研究会運営規定
ナノマグネティックス専門研究会
ナノバイオ磁気工学
スピンエレクトロニクス専門研究会
化合物新磁性材料研究会
強磁場応用専門研究会
光機能磁性デバイス・材料専門研究会
完了した研究会
第7回日本応用磁気学会スピンエレクトロニクス専門研究会
共催 応用物理学会スピンエレクトロニクス研究会H17研究会

テーマ: 「スピン注入の展開」 スピン注入の基礎から新しい展開まで

日 時: 2005年7月21日(木) 13:00 - 17:00
場 所: 東京都港区芝公園 機械振興会館地下3階1号室(定員60名)
世話人: 綱島滋(名大)、斉藤好昭(東芝)、大森広之(Sony)、鈴木義茂(阪大基礎工)
問い合わせ先: 鈴木(阪大基礎工) 
e-mail: suzuki-y@mp.es.osaka-u.ac.jp
TEL/FAX 06-6850-6425

プログラム:
13:00-13:05 はじめに
13:05-13:50 「スピン注入磁化反転の基礎」
   佐久間昭正(東北大学大学院工学研究科)
13:50-14:35 「MgO障壁層を用いたTMR素子の巨大TMR効果」
   早川純(日立、東北大)、池田正二(東北大)、李永眠(東北大) 松倉文礼(東北大)、高橋宏昌(日立、東北大)、大野英男 (東北大)
14:35-15:20 「スピン流による強磁性の不安定化」
   河野浩(阪大)
15:30-16:15 「スピン注入素子のマイクロ波による評価」
   鈴木義茂(阪大・産総研)
16:15-16:55 「スピン注入素子におけるペルチェ効果」
   福島章雄(産総研)
16:55-17:00 まとめ