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第3回ナノマグネティックス専門研究会 報告
日 時:2003年10月24日(金)13:30〜17:00
場 所:NTT武蔵野研究開発センタ(東京都武蔵野市)
参加者:約17名

講演内容:
  1. 「強磁性ナノドット配列の形成過程と磁性」
        (
    小森文夫(東大物性研))
      窒素吸着銅表面上に形成される自己組織的ナノパターンをテンプレートとして,磁性ナノドット配列を作製し,その磁性について調べた.本講演ではナノパターンとドット配列形成過程およびコバルトナノドット配列の強磁性秩序形成について議論した.

  2. 「Co/Pd人工格子膜特性のPd総厚依存性」
        (根本広明,中川宏之,細江譲(日立)

      Co/Pd人工格子膜の磁気特性のPd層厚依存性について,詳細な検討を行った.Pd層が薄い領域においては,Pd層厚さに比例して誘導磁気モーメントが増加した.また,この誘導磁気モーメント量に比例して垂直磁気異方性エネルギーが発現することが分かった.

  3. 「磁気記録の現状と将来(磁気ヘッドおよび記録媒体について技術の現状と将来展望)」
        (押木満雅(富士通研)

      磁気ヘッドおよび記録媒体について技術の現状と将来展望について紹介された.磁気ヘッドでは,再生方式,記録ヘッド,垂直記録用単磁極ヘッドなどを解説し,さらに,将来の超高密度記録に向け,製造技術の重要性も話された.記録媒体では,面内記録媒体および垂直記録媒体の現状と更なる高密度化への見通しを解説され,将来記録媒体であるディスクリート媒体や熱アシスト記録などにも言及された.磁気記録の現状と将来を見渡した有意義な講演であった.
 
 磁気記録ならびに関係する物性,さらには中長期的な展望について3人の方に講演していただいた.日程の都合で17名と参加者が少なかったのが残念であるが,内容の濃いディスカッションとなり,参加者の少なさを感じさせない盛り上がりを見せた.

NTT 黒川義昭, 日立マクセル 粟野博之