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日時：1996年7月5日(金) 13:30-16:30
場所：横浜テクノロジーセンター(横浜市保土ケ谷区)
連絡先：ソニー中研、林 和彦(Tel:045-353-6842)
講演題目：
- 高電気抵抗膜の微粒子構造形成過程と軟磁性
加藤和照、北上 修*、島田 寛* 三井金属総合研究所、東北大科研*
- Si基坂上へのFe薄膜のエビタキシャル成長
八重樫誠司、栗原敏也、佐藤和幸 ジャパンエナジー材料部品研究所
- 単層垂直磁化膜媒体/リングヘッド記録による高密度磁気記録
二本正昭、本多幸雄、平山義幸、伊藤研也、井手 浩、丸山洋治 日立中研
- 二層垂直メディアによる高密度記録
本多直樹 秋田県高度技術研究所
- 高記録密度対応縦型MRヘッド
高田昭夫、福本康司、柴田拓二、早田裕 ソニー(株)コンピュータペリフェラル＆コンポーネントカンパニー
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